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更新时间:2025-11-18
浏览次数:13简要描述:德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂产品介绍:在现代光学科技体系中,材料性能往往直接决定系统的成像能力、能量传输效率与长期稳定性。氟化钙(Calcium Fluoride,CaF₂)作为一种跨紫外—可见—红外波段都具有优异透过性能的光学晶体材料,已经成为精密光学、光刻技术、高功率激光系统以及红外探测器的重要基础材料。
| 品牌 | Hellma/德国豪玛 | 供货周期 | 一个月以上 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂ 产品介绍
产品介绍:
在现代光学科技体系中,材料性能往往直接决定系统的成像能力、能量传输效率与长期稳定性。氟化钙(Calcium Fluoride,CaF₂)作为一种跨紫外—可见—红外波段都具有优异透过性能的光学晶体材料,已经成为精密光学、光刻技术、高功率激光系统以及红外探测器的重要基础材料。
产品参数:
Hellma 的 CaF₂ 在以下波段具有高透过性能
130–200 nm:深紫外仍可保持可用透过率(原生晶体杂质极低)
200–400 nm(UV):透过率可超过 90%
400–700 nm(VIS):透过率通常可达 92–94%
1–6 μm(IR):透过率平坦稳定,维持高光通量
圆形晶体:最大直径可达 Ø 440 mm
常规供应:Ø 20–200 mm
平板厚度:从 1 mm 到 60 mm
可定制形状:平板、窗口、透镜坯件、准球面、棱镜、柱体等
密度:3.18 g/cm³
熔点:1418 °C
热膨胀系数(@20°C):18.85 ×10⁻⁶ /K
杨氏模量:75.8 GPa
泊松比:0.26
热导率(25°C):9.71 W/mK
维氏硬度:158 HV
应用领域:
1. 深紫外(DUV)光学系统
半导体光刻(193 nm、248 nm)
DUV 激光系统
UV 光刻机、紫外显微镜
CaF₂ 的低吸收与低色散能显著提升光刻系统的成像质量。
2. 高功率激光系统
355 nm / 532 nm 纳秒激光
1064 nm 工业激光
高能激光窗口与透镜
3. 可见光与科研光学系统
光谱仪窗口
精密成像系统
环境监测仪器
天文观测光学元件
4. 中红外光学(3–8 μm)
红外传感器
热像仪镜头
中红外窗口、红外滤光片
激光探测器封装窗口
产品特点:
宽透射波段(覆盖 DUV–IR)
大尺寸晶体能力,适合光学制造
内部缺陷控制能力强,均匀性高
可定制多形状、多规格加工件
德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂ 产品介绍