产品中心/ products

您的位置:首页  -  产品中心  -  比色皿  -  晶体材料  -  德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂

德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂

  • 产品型号:
  • 更新时间:2025-11-18
  • 浏览次数:13

简要描述:德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂

产品介绍:

在现代光学科技体系中,材料性能往往直接决定系统的成像能力、能量传输效率与长期稳定性。氟化钙(Calcium Fluoride,CaF₂)作为一种跨紫外—可见—红外波段都具有优异透过性能的光学晶体材料,已经成为精密光学、光刻技术、高功率激光系统以及红外探测器的重要基础材料。

产品详情
品牌Hellma/德国豪玛供货周期一个月以上
应用领域综合

德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF产品介绍

 

产品介绍:

 

在现代光学科技体系中,材料性能往往直接决定系统的成像能力、能量传输效率与长期稳定性。氟化钙(Calcium FluorideCaF)作为一种跨紫外—可见—红外波段都具有优异透过性能的光学晶体材料,已经成为精密光学、光刻技术、高功率激光系统以及红外探测器的重要基础材料。

 

产品参数:

 

Hellma CaF 在以下波段具有高透过性能

130200 nm:深紫外仍可保持可用透过率(原生晶体杂质极低)

200400 nmUV):透过率可超过 90%

400700 nmVIS):透过率通常可达 9294%

16 μmIR):透过率平坦稳定,维持高光通量

圆形晶体:最大直径可达 Ø 440 mm

常规供应:Ø 20200 mm

平板厚度:从 1 mm 60 mm

可定制形状:平板、窗口、透镜坯件、准球面、棱镜、柱体等

密度:3.18 g/cm³

熔点:1418 °C

热膨胀系数(@20°C):18.85 ×10⁻⁶ /K

杨氏模量:75.8 GPa

泊松比:0.26

热导率(25°C):9.71 W/mK

维氏硬度:158 HV

 

应用领域:

 

1. 深紫外(DUV)光学系统

 

半导体光刻(193 nm248 nm

DUV 激光系统

UV 光刻机、紫外显微镜

CaF 的低吸收与低色散能显著提升光刻系统的成像质量。

 

2. 高功率激光系统

 

355 nm / 532 nm 纳秒激光

1064 nm 工业激光

高能激光窗口与透镜

 

3. 可见光与科研光学系统

 

光谱仪窗口

精密成像系统

环境监测仪器

天文观测光学元件

 

4. 中红外光学(38 μm

 

红外传感器

热像仪镜头

中红外窗口、红外滤光片

激光探测器封装窗口

 

产品特点:

 

宽透射波段(覆盖 DUVIR

大尺寸晶体能力,适合光学制造

内部缺陷控制能力强,均匀性高

可定制多形状、多规格加工件

德国 HELLMA 晶体材料 氟化钙CaF₂ 产品介绍

在线咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
公司简介  >  在线留言  >  联系我们  >  
产品中心
比色皿

CONTACT

办公地址:北京市顺义区南法信镇金关北二街3号院3号楼10层1035

TEL:

EMAIL:sales10@handelsen.cn
扫码微信联系
版权所有©2025 北京汉达森机械技术有限公司 All Rights Reserved   备案号:京ICP备12013454号-53   sitemap.xml技术支持:化工仪器网   管理登陆